SK Hynix使用新一代ASMA光刻系统来生成戏剧
韩国第二大记忆制造商SK Hynix周三表示,它在韩国的记忆中采用了先进的劳动力设备,以加快下一个代理芯片的发展。
该公司表示,它正在安装首个高数量的极端极端紫外线(High EUV)光刻系统,位于首尔南部Icheon City的主要生产基地。
高EUV是指高级光刻系统,该系统通过应用大量的光圈来提供更好的分辨率,以测量光学系统收集光的能力。
该设备是由荷兰根据Asmay公司生产的,该公司表示,数字孔径增加了40%,准确性增加了1.7倍。
SK Hynix表示,该系统将加快Susaysd生成内存产品的形成。
Cha s说:“我们期待增加为我们正在追求的技术带来愿景的关键基础设施。”Eon-tong,SK Hynix的研发负责人。
他说:“我们的目标是使用快速增长的人工智能(AI)和下一代计算市场所需的技术插条来增强我们在人工智能(AI)领域的领导。”
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